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MOCVD（金属有机化学气相沉积）是一种用于生长薄膜的工艺，它通过将金属有机化合物和气相反应源物质在高温下分解，使金属原子沉积在衬底上，形成薄膜。 该工艺流程包括衬底表面的清洗、预热、衬底的放置于反应室中，然后通过控制反应气体的流量和温度，将金属有机化合物和气相反应源物质送入反应室，进行沉积反应，最后冷却衬底并取出。 这一过程在高真空下进行，以确保薄膜的质量和均匀性。...